能清除蜡及细小的不纯物,并且不会损伤玻璃及化合物半导体工件。 |
具有很强的表面活性剂效果,能有效脱落各种材料上的蜡、脂和研磨剂。 |
新开发的清洗剂。碱的粘合胶(SKYLIQUID、SHIFTWAX、SKYCOAT、MA·EG等)的清洗能力有了极大改善,同时对加工件的损害也降到了最低。需要进行高纯度清洗的场合,可使用KILALA CLEAN。 |
能有效清除研磨剂及静电杂质。防静电污染可用PLACLEAN-A,强力脱脂可用PLACLEAN-HN,而研磨剂和受静电影响所附着的不纯物可用RPLACLEAN-NCS型清洗。 |
对金属腐蚀性相对比较小的清洗剂。 |
该产品清洁能力高,适合于清除ADFIX系列和SHIFTWAX系列的固体蜡,以及研磨板上的顽固污染和油脂。DEVEL-A型是一种无泡沫的清洗剂。 |
KILALA CLEAN-101型是可清洗SKYLIQUID及可溶性碱性蜡的高纯度清洗剂,适合于所有晶片的最终清洗。还有低腐蚀性的301型。 |
该产品能强力乳化油污。EMUNIKKA-2型是可在常温下使用的弱碱性的清洗剂。EMUNIKK55型是可以加热使用的强碱性清洗剂,也能有效地清洗掉ADFIX系列的固体蜡。 |
本产品能有效去除水晶、陶瓷和玻璃研磨工艺中的铁离子。 |
适合对SKYWAX系列、ALCOWAX系列、SHIFTWAX系列固体蜡,以及油性研削液的初级清洗。该产品的燃点是73摄氏度,燃点比较高,能保持很好的工作特性。 |
(注:产品介绍中做出的比较,是针对我司内部产品。)